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簡要描述:佳業(yè)光亮退火-變壓吸附制氮機(jī):環(huán)境空氣經(jīng)壓縮凈化,除去油、水、塵后,進(jìn)入由兩個(gè)裝填有碳分子篩的吸附塔組成的變壓吸附裝置。壓縮空氣由下至上流經(jīng)吸附 塔,其間氧分子在碳分子篩表面吸附,氮?dú)庥晌剿隙肆鞒?,進(jìn)入粗氮緩沖罐,經(jīng)過一段時(shí)間后,吸附塔中碳分子篩被吸附的氧飽和,需進(jìn)行再生。再生是通過停止吸附步驟,降低吸附塔壓力來實(shí)現(xiàn)的。兩個(gè)吸附塔交替進(jìn)行吸附和再生,從而確保氮?dú)獾倪B續(xù)輸出。
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佳業(yè)光亮退火-變壓吸附制氮機(jī)
佳業(yè)光亮退火-變壓吸附制氮機(jī)簡介:
環(huán)境空氣經(jīng)壓縮凈化,除去油、水、塵后,進(jìn)入由兩個(gè)裝填有碳分子篩的吸附塔組成的變壓吸附裝置。壓縮空氣由下至上流經(jīng)吸附 塔,其間氧分子在碳分子篩表面吸附,氮?dú)庥晌剿隙肆鞒?,進(jìn)入粗氮緩沖罐,經(jīng)過一段時(shí)間后,吸附塔中碳分子篩被吸附的氧飽和,需進(jìn)行再生。再生是通過停止吸附步驟,降低吸附塔壓力來實(shí)現(xiàn)的。兩個(gè)吸附塔交替進(jìn)行吸附和再生,從而確保氮?dú)獾倪B續(xù)輸出。
常規(guī)變壓吸附制氮機(jī)技術(shù)特點(diǎn):
1、原料空氣取自自然,只需提供壓縮空氣和電源即可制氮?dú)?。設(shè)備能耗低,運(yùn)行成本費(fèi)用少。
2、氮?dú)饧兌日{(diào)整方便,氮?dú)饧兌戎皇艿獨(dú)馀艢饬康挠绊?,普通制氮純度?5%-99.99%之間任意調(diào)節(jié);高純度制氮機(jī)可在99%-99.999%之間任意調(diào)節(jié)。
3、設(shè)備自動(dòng)化程度高,產(chǎn)氣快,可無人值守。啟動(dòng)、關(guān)機(jī)只需按一下按鈕,開機(jī)10-15分鐘內(nèi)即可產(chǎn)生氮?dú)狻?/span>
4、設(shè)備工藝流程簡單,設(shè)備結(jié)構(gòu)外形緊湊,占地面積小,設(shè)備裝置適應(yīng)性高。
5、暴風(fēng)雪法裝填分子篩,避免高壓氣流沖擊導(dǎo)致分子篩粉化現(xiàn)象,確保分子篩長時(shí)間使用。
6、數(shù)顯流量計(jì)帶壓力補(bǔ)償、高精度的工業(yè)過程監(jiān)控二次儀表,具有瞬時(shí)流量及累積計(jì)算的功能。
7、進(jìn)口分析儀在線檢測,高精度,免維護(hù)。
空氣經(jīng)空壓機(jī)壓縮后,經(jīng)過除塵、除油、干燥后,進(jìn)入由兩個(gè)裝填有碳分子篩(CN)得到吸附塔組成的變壓吸附裝置,壓縮空氣由下至上流經(jīng)吸附塔,其間氧分子在碳分子篩表面吸時(shí),氮?dú)庥晌剿隙肆鞒鲞M(jìn)入一組氮緩沖罐。
行業(yè)應(yīng)用范圍.
1、SMT行業(yè)應(yīng)用
充氮回流焊及波峰焊,用氮?dú)饪捎行б种购稿a的氧化,提高焊接潤濕性,加快潤濕速度減少錫球的產(chǎn)生,避免橋接,減少焊接缺陷,多名SMT電子廠家配套了數(shù)百套高性價(jià)比的變壓吸附制氮機(jī),在SMT行業(yè)擁有龐大的客戶群,SMT行業(yè)占有率達(dá)90%以上。
2、半導(dǎo)體硅行業(yè)應(yīng)用
半導(dǎo)體和集成電路制造過程的氣氛保護(hù),清洗,化學(xué)品回收等。
3、半導(dǎo)體封裝行業(yè)應(yīng)用
用氮?dú)夥庋b、燒結(jié)、退火、還原、儲(chǔ)存。宏博變壓吸附制氮機(jī)協(xié)助業(yè)類各大廠家在競爭中贏得先機(jī),實(shí)現(xiàn)了有效的價(jià)值提升。
4、電子元器件行業(yè)應(yīng)用
用氮?dú)膺x擇性焊接、吹掃和封裝??茖W(xué)的氮?dú)舛栊员Wo(hù)已經(jīng)被證明是成功生產(chǎn)高品質(zhì)電子元器件一個(gè)*的重要環(huán)節(jié)。
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